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　　美光公司(sī)在华销售的产(chǎn)品(pǐn)未通过网络安全审查

　　据网信办消息，日前，网(wǎng)络安全审查办公室依法对美(měi)光公司在华销(xiāo)售产品进行了(le)网络安(ān)全(quán)审查。

　　审(shěn)查(chá)发现，美光公司(sī)产(chǎn)品存在(zài)较(jiào)严重网络(luò)安(ān)全问题隐患，对(duì)我国关键信息基中华牙膏是中国品牌吗，中华牙膏是中国品牌还是外国牌子(jī)础设施供应链(liàn)造(zào)成重(zhòng)大安全风险(xiǎn)，影响(xiǎng)我国国家安全。为此，网络安全审(shěn)查(chá)办公室(shì)依法(fǎ)作出不予通过网(wǎng)络(luò)安(ān)全审(shěn)查的结论(lùn)。按照《网络(luò)安全法》等(děng)法(fǎ)律法规，我国内关键信息基础(chǔ)设施的运营者应(yīng)停(tíng)止采购美光公(gōng)司(sī)产品。

　　此次对美光公司产(chǎn)品进(jìn)行网络安全审(shěn)查，目的是防范产(chǎn)品网络安(ān)全问题(tí)危害国家关键信息(xī)基础设施安全，是维护(hù)国家安全的必要措施。中国坚定推进(jìn)高水平对外开放(fàng)，只要(yào)遵(zūn)守中国法律法规要(yào)求，欢(huān)迎各国企业、各类平台产(chǎn)品服务进入中(zhōng)国市(shì)场。

　　3月(yuè)31日，中国网信网发文称，为(wèi)保(bǎo)障关键(jiàn)信息基础设(shè)施供应链安全，防范产品问(wèn)题隐患造成网(wǎng)络安全风险(xiǎn)，维护国(guó)家安全，依据(jù)《中华人民共(gòng)和(hé)国国家(jiā)安(ān)全(quán)法(fǎ)》《中华人民共和国(guó)网络安(ān)全法》，网络安(ān)全审查办(bàn)公室按照《网络安全审查办法》，对美光公司（Micron）在华销售的产品(pǐn)实施网络安全(quán)审查(chá)。

　　美光(guāng)是美国的存储芯片(piàn)行业龙头(tóu)，也是全球存储(chǔ)芯片巨头之(zhī)一(yī)，2022年收入(rù)来自(zì)中国市场(chǎng)收入(rù)从(cón中华牙膏是中国品牌吗，中华牙膏是中国品牌还是外国牌子g)此(cǐ)前高峰57％降(jiàng)至2022年(nián)约11％。根据(jù)市(shì)场咨中华牙膏是中国品牌吗，中华牙膏是中国品牌还是外国牌子询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠侠、西部数据(jù)、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash （闪存(cún)）市场份额约为 96.76％，三星(xīng)电(diàn)子、 SK 海(hǎi)力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中，江波龙、佰维存(cún)储等公(gōng)司披露过美(měi)光等(děng)国(guó)际存储厂商为公司(sī)供(gōng)应(yīng)商。

　　美光在江波龙(lóng)采购占比(bǐ)已经显著(zhù)下(xià)降，至(zhì)少已(yǐ)经不是(shì)主要大供应(yīng)商。

　　公告显示(shì)， 2021年美(měi)光位(wèi)列江(jiāng)波龙(lóng)第一大存(cún)储晶圆(yuán)供应(yīng)商，采购约(yuē)31亿元，占比33.52％；2022年，江(jiāng)波龙(lóng)第一大、第(dì)二(èr)大(dà)和第三(sān)大供(gōng)应(yīng)商采购金额占比(bǐ)分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江波龙(lóng)已(yǐ)经在存储产业链上下游建立国内外广泛(fàn)合作。2022年年报显(xiǎn)示，江波龙(lóng)与三星、美光、西(xī)部数据(jù)等主(zhǔ)要存(cún)储晶(jīng)圆原厂签署了长(zhǎng)期合约，确保(bǎo)存储晶圆供应(yīng)的稳定性，巩(gǒng)固公司在(zài)下游市场的供(gōng)应优势，公司也与国(guó)内国产存(cún)储晶圆原厂武汉长(zhǎng)江(jiāng)存储、合肥长鑫保持良好(hǎo)的合作。

　　有(yǒu)券商此前就分析，如果美(měi)光在中国区销售受(shòu)到限(xiàn)制，或(huò)将导致(zhì)下游客(kè)户转而采购(gòu)国外三星、 SK海力士，国内长江存储(chǔ)、长鑫(xīn)存储(chǔ)等竞对产(chǎn)品

　　分析称，长存、长鑫的(de)上游设(shè)备厂(chǎng)或从中受益。存储(chǔ)器的生产已经(jīng)演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维到3维的结构(gòu)转变使刻蚀和薄膜成为最关(guān)键、最大量(liàng)的加工设备。3D NAND每层(céng)均需(xū)要经过薄膜沉积工(gōng)艺步骤，同时刻蚀目前前(qián)沿要刻到 60：1的深孔，未来可能(néng)会更(gèng)深的孔或(huò)者沟槽，催生更(gèng)多设备(bèi)需求(qiú)。据东京电子披露，薄膜沉积设(shè)备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线资本开(kāi)支合(hé)计(jì)为75％。自(zì)长(zhǎng)江(jiāng)存储被加入美国限制(zhì)名(míng)单，设备国产化进程加速(sù)，看好拓(tuò)荆科技（薄膜沉积(jī)）等相关公司份额提升，以(yǐ)及存储业务占比较高(gāo)的华海清科(kē)（CMP）、盛美上海（清洗(xǐ)）等收入增(zēng)长(zhǎng)。

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