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　　美光(guāng)公司在华销售的产品未通(tōng)过网络安全(quán)审查

　　据网信办消(xiāo)息，日前(qián)，网络安(ān)全(quán)审(shěn)查办公(gōng)室(shì)依法对美光公司在华(huá)销售产品进(jìn)行了网络安全审(shěn)查。

　　审查发现，美光公司产品存在(zài)较(jiào)严重网络安全(quán)问(wèn)题(tí)隐患，对(duì)我国关键信息基础设施供应链造(zào)成重(zhòng)大安全风险(xiǎn)，影响我国(guó)国家(jiā)安全(quán)。为(wèi)此，网络安全审(shěn)查办公室依法作出不予通过网络安(ān)全审查的结论(lùn)。按照《网络安全法(fǎ)》等法律法规，我(wǒ)国内关键信息基础设(shè)施(shī)的运(yùn)营者应停(tíng)止采(cǎi)购(gòu)美(měi)光公(gōng)司产品(pǐn)。

　　此次对(duì)美光公司产品进行网络安全(quán)审(shěn)查(chá)，目(mù)的是(shì)防(fáng)范产品网络安全问(wèn)题危(wēi)害国(guó)家关键信息基础设施安(ān)全，是维护(hù)国(guó)家安全的必要(yào)措施。中国坚定推(tuī)进(jìn)高水(shuǐ)平对外开放，只要遵守中国法律法规要求，欢迎(yíng)各国企业、各类平(píng)台产品服务进(jìn)入中(zhōng)国市场(chǎng)。

　　3月31日，中国网信网(wǎng)发文称，为保障(zhàng)关键信(xìn)息基础设(shè)施供应链安(ān)全，防范产品问题隐患造(zào)成(chéng)网络安(ān)全风险，维护国家安全，依据《中华人(rén)民共和国国家安全法(fǎ)》《中华人民共(gòng)和国网络(luò)安全(quán)法》，网络安全审(shěn)查(chá)办公室按照《网络安全(quán)审查办法》，对美光公(gōng)司(sī)（Micron）在华销售的产品(pǐn)实施(shī)网络安全审查。

　　美光是美国(guó)的存(cún)储芯片行(xíng)业龙头，也(yě)是全球存储芯(xīn)片巨(jù)头(tóu)之一，2022年收入来自中(zhōng)国市场收入从此前高峰57％降至(zhì)2022年约11％。根据市场咨询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年三星电子、 铠侠、西部(bù)数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星(xīng)电(diàn)子(zi)、 SK 海力士、美光(guāng)在(zài)全球 DRAM （内存(cún)）市场份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中，江波龙(lóng)、佰维存(cún)储(chǔ)等公司披(pī)露过(guò)美光等国际存储厂商为公司供应商(shāng)。

　　美光在江(jiāng)波龙采购占比已经显著下降，至少已(yǐ)经不是主要大供应(yīng)商。

　　公告显示， 2021年美光位列(liè)江波龙第一大存储晶圆(yuán)供应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第三(sān)大供应商采购金额占比分别是(shì)26.28％、22.85％和(hé)5.76％。

　　目前江波龙已经在(zài)存储产业链上(shàng)下游建立(lì)国(guó)内外广泛合(hé)作。2022年年报显示，江波龙(lóng)与三星(xīng)、美光、西部数据(jù)等主要存储晶圆原厂签署了长期合约，确保存储晶圆供应的稳定性，巩固公司在下游市场的供应优势，公司也与(yǔ)国(guó)内国产存储晶圆原厂(chǎng)武汉(hàn)长(zhǎng)江(jiāng)存储、合肥长鑫保持良好的合作。

　　有券商此前就(jiù)分析，如(rú)果(guǒ)美光在中国(guó)区销(xiāo)售(shòu)受到限制，或将导致下(xià)游客户转而采(cǎi)购国外三星、 SK海(hǎi)力士，国内长江存(cún)储、长鑫存(cún)储等竞对产(chǎn)品

　　分析称(chēng)，长存、长鑫的上游(yóu)设备厂或从中(zhōng)受益(yì)。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已(yǐ)经(jīng)进入3D NAND时代，2 维(wéi)到(dào)3维的结(jié)构转变使刻蚀和(hé)薄(báo)膜(mó)成为最关键、最大量的加工(gōng)设(shè)备。3D NAND每层均需要(yà旖旎是什么意思解释，风光旖旎是什么意思解释o)经过薄(báo)膜沉积工艺步骤(zhòu)，同(tóng)时刻蚀目前(qián)前沿要(yào)刻到(dào) 60：1的深孔，未来(lái)可能会(huì)更深的孔或者(zhě)沟槽，催(cuī)生更多设备需求。据东京(jīng)电子披露，薄膜(mó)沉积(jī)设(shè)备(bèi)及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开支合计为75％。自长(zhǎng)江存储被加入美国限制名单，设备国(guó)产化进程加速，看好拓荆科技（薄膜(mó)沉积）等相关公司份额提升，以及存(cún)储业务占比较高的华海清(qīng)科（CMP）、盛(shèng旖旎是什么意思解释，风光旖旎是什么意思解释)美上(shàng)海（清洗(xǐ)）等收入(rù)增长。

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