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　　美(měi)光(guāng)公司在华销(xiāo)售的产品(pǐn)未通过网络安全(quán)审(shěn)查

　　据网信办消(xiāo)息，日(rì)前，网络安全审(shěn)查(chá)办公室依(yī)法(fǎ)对美(měi)光(guāng)公司在华销售产(chǎn)品(pǐn)进(jìn)行了网络安全审(shěn)查。

　　审查(chá)发现，美光公司产品(pǐn)存在(zài)较严重(zhòng)网络安全问(wèn)题(tí)隐(yǐn)患，对我国关键信息基础设施供应链造成重大安(ān)全风险，影响我国国家安全。为此，网络安全(quán)审(shěn)查办公室依(yī)法作(zuò)出不予(yǔ)通(tōng)过网络安(ān)全(quán)审查的结论。按(àn雨水淋过的衣服晒干还能穿吗，雨水淋过的衣服晒干还能穿吗)照《网络安全法》等法律法规，我(wǒ)国内关(guān)键信(xìn)息(xī)基础设施的(de)运营(yíng)者应停止(zhǐ)采购美光公司产品。

　　此次对(duì)美光(guāng)公司产(chǎn)品(pǐn)进行网络(luò)安(ān)全(quán)审查，目的是防范产(chǎn)品(pǐn)网络安全(quán)问题危(wēi)害国(guó)家关键信(xìn)息基础设施(shī)安全，是维护国家安全的(de)必要措施。中国坚定(dìng)推进(jìn)高水平对外开放，只(zhǐ)要遵守中国法律(lǜ)法规雨水淋过的衣服晒干还能穿吗，雨水淋过的衣服晒干还能穿吗要求，欢迎(yíng)各国企业、各类平(píng)台产品(pǐn)服务进入(rù)中(zhōng)国市场。

　　3月31日，中国网信(xìn)网发文称，为(wèi)保障(zhàng)关键信息基(jī)础设施供应链安全，防范产品问(wèn)题隐患(huàn)造成网络安(ān)全风险，维护国家安全，依据《中华人(rén)民共(gòng)和(hé)国国家安全法(fǎ)》《中华人民共和国网络安全法(fǎ)》，网络(luò)安全审(shěn)查(chá)办(bàn)公室(shì)按照《网络安(ān)全审查办法》，对美光公司（Micron）在华销(xiāo)售的产品实施(shī)网络安全审(shěn)查。

　　美光是美国的存(cún)储芯片行(xíng)业龙(lóng)头，也(yě)是全球存(cún)储芯(xīn)片(piàn)巨头之一(yī)，2022年收入来自中国市(shì)场收入从此前(qián)高峰57％降至2022年约11％。根据市(shì)场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠侠、西部(bù)数(shù)据、SK 海力士、美光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星电(diàn)子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存(cún)）市场份额(é)约(yuē)为 94.35％。

　　A股(gǔ)上(shàng)市公司中(zhōng)，江波龙、佰维存储(chǔ)等公司披露过美光等国际存储厂(chǎng)商为公(gōng)司供应商。

　　美光在江波龙采购占比已经显著下降(jiàng)，至(zhì)少(shǎo)已经(jīng)不(bù)是主要大供应商。

　　公告显(xiǎn)示， 2021年美光位(wèi)列江波龙第一大存储晶圆(yuán)供应商，采(cǎi)购约31亿元(yuán)，占比(bǐ)33.52％；2022年，江波龙(lóng)第一大、第二大和第(dì)三大供应商采购金额占比分别是(shì)26.28％、22.85％和5.76％。

　　目(mù)前江(jiāng)波龙已(yǐ)经在存储产业链上下游(yóu)建立国内(nèi)外(wài)广(guǎng)泛合作。2022年(nián)年报显示，江(jiāng)波龙与三星、美光、西部数(shù)据等主要(yào)存储晶圆原厂(chǎng)签(qiān)署(shǔ)了长期合约，确(què)保存储晶圆供应的稳定性，巩固公司在下游(yóu)市场的供应优势(shì)，公(gōng)司也与(yǔ)国内(nèi)国产存储(chǔ)晶圆原厂武汉长江存(cún)储、合肥长鑫保持良好的合(hé)作。

　　有(yǒu)券商此前就分(fē雨水淋过的衣服晒干还能穿吗，雨水淋过的衣服晒干还能穿吗n)析，如(rú)果美光(guāng)在中国区(qū)销售受(shòu)到限制，或(huò)将(jiāng)导致下游客户(hù)转(zhuǎn)而采购(gòu)国外三星(xīng)、 SK海(hǎi)力士，国内长江存储、长鑫存储(chǔ)等(děng)竞对产品

　　分(fēn)析称，长存、长鑫的上游设备厂或从中受益。存(cún)储(chǔ)器的(de)生(shēng)产(chǎn)已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工(gōng)艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维到3维(wéi)的结(jié)构转变(biàn)使刻蚀和薄(báo)膜(mó)成为(wèi)最关键、最(zuì)大量的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需(xū)要(yào)经过薄(báo)膜沉积工艺步(bù)骤，同时刻蚀目(mù)前(qián)前沿要(yào)刻到 60：1的深孔，未(wèi)来(lái)可(kě)能会更深的孔或者沟(gōu)槽，催生更多设备(bèi)需求。据东京电子披(pī)露(lù)，薄膜沉(chén)积设备(bèi)及(jí)刻(kè)蚀占(zhàn)3D NAND产(chǎn)线(xiàn)资(zī)本开支(zhī)合计(jì)为75％。自长(zhǎng)江存储被加入(rù)美(měi)国限制(zhì)名单，设备国产化进程加速(sù)，看好拓荆科技（薄(báo)膜沉积）等相关公司份额(é)提升，以及存储业务占比较高的华海清(qīng)科（CMP）、盛美(měi)上海（清洗(xǐ)）等(děng)收入增长。

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